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Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器


LAUDA Semistat热电过程恒温器适用于 -20 90 °C 的半导体行业,

热电温度控制系统LAUDA Semistat为等离子刻蚀工艺提供稳定的可重复性的温度控制。系统动态地控制静电卡盘(ESC)的温度并可以用在刻蚀工艺中。LAUDA Semistat 热电温度控制系统设计的基础是基于帕尔帖原理的温度转换, 这些原件可以实现快速地温度控制,满足了当今元器件生产尺寸越来越小的要求。

与基于压缩机的系统相比,热点在线使用 Semistat 温度控制系统,降低能耗多达 90 %。可安装在使用地点的地下,非常节省空间,这样尽可能减少无尘室的使用。将过程温度曲线控制在 ±0.1 K,从而提高晶圆间均质性。

产品型号:S 1200/ S 2400/ S 4400

 


Lauda Semistat 半导体专用工艺过程恒温器


低能耗,没有压缩机和制冷剂的系统

占地空间小,如果放置在地板下方则不占用Sub-Fab

导热液体填充量低